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PVD

陛通200mm PVD - VENUS 2200系列:


       上海陛通在传统PVD物理气相沉积的基础上,突破了溅射阴极设计技术、等离子均匀性控制技术、腔室设计技术、整机自动化控制等关键技术,推出了具有多项自主知识产权的200mm RiD反应离子和通用型PVD物理气相沉积设备,大幅优化了薄膜沉积速率,获得了超优膜厚均匀性和方阻均匀性,先后研制出了可应用于多个领域研的多款RiD和通用型PVD产品并成功产业化。


      应用工艺:

       陛通200mm通用型PVD可沉积包括Al,AlCu,Ti/TiN,Ta/TaN,TiW/Au和Ti/Cu在内的多种金属薄膜;

       陛通200mm RiD可沉积包括TaN,AlN, SiO2,SiN, CrSi(N), NiCr(N)在内的多种氧化物和氮化物薄膜。

       应用领域:

       陛通200mm RiD和通用型PVD产品可广泛应用于逻辑、存储、第三代半导体、功率半导体、5G 射频前端、5G高频滤波器、声表面波(TC-SAW)滤波器、高方阻/低TCR薄膜电阻、以及先进封装等领域。


陛通300mm PVD: - VENUS 3200系列:


       上海陛通在PVD VENUS 2200系列的基础上,设计了带有LEGO15k 平台的VENUS 3200系列,可以大幅提供机台产能。陛通自行开发的产品系统软件,采用了业界先进的整机自动化控制。陛通具有的可旋转加热盘设计可以把300mm PVD的薄膜均匀性做到1%左右。


       应用工艺:

       陛通300mm通用型PVD可沉积包括Al,AlCu,Ti/TiN,Ta/TaN,TiW/Au和Ti/Cu在内的多种金属薄膜。

       应用领域:

       陛通300mm通用型PVD产品可广泛应用于逻辑、存储、第三代半导体、功率半导体、以及先进封装等领域。